TSMC Global R&D Center hleypt af stokkunum

TSMC Global R&D Center var vígt í dag og Morris Chang, stofnanda TSMC viðburðarins í fyrsta skipti eftir starfslok, var boðið.Í ræðu sinni lýsti hann sérstöku þakklæti til R&D starfsfólks TSMC fyrir viðleitni þeirra, sem gerði tækni TSMC leiðandi og jafnvel að verða alþjóðlegt vígvöllur.

Það er lært af opinberri fréttatilkynningu TSMC að rannsókna- og þróunarmiðstöðin verði nýtt heimili TSMC rannsókna- og þróunarstofnana, þar á meðal vísindamenn sem þróa TSMC 2 nm og yfir háþróaða tækni, svo og vísindamenn og fræðimenn sem stunda könnunarrannsóknir í ný efni, smárabyggingar og önnur svið.Þar sem rannsóknar- og þróunarstarfsmenn hafa flutt sig um set á vinnustað nýju byggingarinnar mun fyrirtækið vera fullbúið fyrir yfir 7000 starfsmenn í september 2023.
Rannsóknar- og þróunarmiðstöð TSMC nær yfir alls 300.000 fermetra svæði og hefur um það bil 42 staðlaða fótboltavelli.Hún er hönnuð sem græn bygging með gróðurveggjum, regnvatnssöfnunarlaugum, gluggum sem hámarka nýtingu náttúrulegs ljóss og sólarplötur á þaki sem geta framleitt 287 kílóvött af rafmagni við hámarksskilyrði, sem sýnir skuldbindingu TSMC til sjálfbærrar þróunar.
Formaður TSMC, Liu Deyin, sagði við sjósetningarathöfnina að inngöngu í R&D miðstöðina núna muni þróast virkan tækni sem leiðir heimshálfleiðaraiðnaðinn, kanna tækni allt að 2 nanómetra eða jafnvel 1,4 nanómetra.Hann sagði að R&D miðstöðin hafi byrjað að skipuleggja fyrir meira en 5 árum, með mörgum snjöllum hugmyndum í hönnun og byggingu, þar á meðal ofurháum þökum og plastvinnurými.
Liu Deyin lagði áherslu á að mikilvægasti þátturinn í rannsókna- og þróunarmiðstöðinni væri ekki stórkostlegar byggingar, heldur R&D-hefð TSMC.Hann sagði að R&D teymið þróaði 90nm tækni þegar það fór inn í Wafer 12 verksmiðjuna árið 2003 og fór síðan inn í R&D miðstöðina til að þróa 2nm tækni 20 árum síðar, sem er 1/45 af 90nm, sem þýðir að þeir þurfa að vera í R&D miðstöðinni. í að minnsta kosti 20 ár.
Liu Deyin sagði að R&D starfsmenn í R&D miðstöðinni muni gefa svör við stærð hálfleiðarahluta eftir 20 ár, hvaða efni á að nota, hvernig á að samþætta ljós og rafræna sýru og hvernig á að deila skammtastafrænum aðgerðum og komast að því. fjöldaframleiðsluaðferðirnar.